Semicera'nınCVD SiC Duş Başlığıoptimize etmek için tasarlanmıştırCVD SiCişlem. Kafa, mükemmel termal iletkenliğe ve kimyasal stabiliteye sahip, zorlu çalışma koşullarında güvenilir performans sağlayan gelişmiş Özel Grafit malzemeyi kullanır. Verimli sprey tasarımı sayesinde CVD SiC Duş Başlığı, düzgün gaz dağıtımı sağlayabilir ve levha üzerinde SiC film birikiminin kalitesini garanti edebilir.
KullanmaTAC KaplamaSemicera'nın CVD SiC Duş Başlığı teknolojisi, aşınma direncini ve servis ömrünü artırarak ekipmanın uzun süreli çalışma sırasında verimli kalmasını sağlar. Optimize edilmiş tasarımı yalnızca bakım maliyetlerini azaltmakla kalmaz, aynı zamanda üretim verimliliğini de artırarak müşterilerin yarı iletken üretim sürecinde daha yüksek getiri elde etmesine olanak tanır.
Ayrıca Semicera'nınCVD SiC Duş Başlığıçeşitli CVD sistemleriyle uyumludur ve farklı üretim ortamlarına esnek bir şekilde uygulanabilir. İster Ar-Ge aşamasında ister büyük ölçekli üretimde olsun,memeistikrarlı performans sağlayarak müşterilerin rekabetçi pazarda öne çıkmasına yardımcı olabilir.
Semicera'nın CVD SiC Duş Başlığını seçtiğinizde, daha verimli bir üretim süreci ve yüksek kaliteli SiC film çıkışı elde etmenize yardımcı olacak mükemmel teknik destek ve yüksek kaliteli ürünlere sahip olacaksınız. Semicera her zaman gelişmeyi teşvik etmeye kararlıdırofyarı iletken endüstrisi ve müşterilere en iyi çözümleri ve hizmetleri sunmak.
✓Çin pazarında en kaliteli
✓Her zaman sizin için iyi hizmet, 7*24 saat
✓Kısa teslimat tarihi
✓Küçük MOQ memnuniyetle karşılanır ve kabul edilir
✓Özel hizmetler
