Silisyum Karbür Kaplama Grafit Tutucu

Kısa Açıklama:

Semicera Semiconductor'ın Silisyum Karbür Kaplama Grafit Tutucusu, epitaksi uygulamaları için olağanüstü termal iletkenlik ve dayanıklılık sağlar. Üstün SiC kaplama teknolojisiyle epitaksiyel proseslerinizi geliştirmek üzere tasarlanmış gelişmiş suseptörler için Semicera'ya güvenin.


Ürün Detayı

Ürün Etiketleri

Tanım

Semicera'nın SiC kaplı grafit tutucuları, gelişmiş Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD) işlemleri yoluyla Silisyum Karbür (SiC) ile titizlikle kaplanmış yüksek kaliteli grafit substratlar kullanılarak tasarlanmıştır. Bu yenilikçi tasarım, termal şoka ve kimyasal bozulmaya karşı olağanüstü direnç sağlayarak SiC kaplı grafit tutucunun ömrünü önemli ölçüde uzatır ve yarı iletken üretim süreci boyunca güvenilir performansı garanti eder.

Temel Özellikler:

1. Üstün Isı İletkenliğiSiC kaplı grafit tutucu, yarı iletken üretimi sırasında verimli ısı dağıtımı için çok önemli olan olağanüstü termal iletkenlik sergiler. Bu özellik, levha yüzeyindeki termal değişimleri en aza indirerek istenen yarı iletken özelliklerinin elde edilmesi için gerekli olan tekdüze sıcaklık dağılımını destekler.

2. Sağlam Kimyasal ve Termal Şok DirenciSiC kaplama, zorlu işleme ortamlarında bile grafit tutucunun bütünlüğünü koruyarak kimyasal korozyona ve termal şoka karşı müthiş bir koruma sağlar. Bu geliştirilmiş dayanıklılık, kesinti süresini azaltır ve kullanım ömrünü uzatarak yarı iletken üretim tesislerinde artan üretkenliğe ve maliyet verimliliğine katkıda bulunur.

3. Özel İhtiyaçlara Göre ÖzelleştirmeSiC kaplı grafit tutucularımız özel gereksinimleri ve tercihleri ​​karşılayacak şekilde özelleştirilebilir. Farklı uygulamalar ve proses parametreleri için tasarım esnekliği ve optimize edilmiş performans sağlamak amacıyla boyut ayarlamaları ve kaplama kalınlığındaki değişiklikler de dahil olmak üzere bir dizi özelleştirme seçeneği sunuyoruz.

Uygulamalar:

UygulamalarSemicera SiC kaplamaları yarı iletken üretiminin çeşitli aşamalarında kullanılmaktadır:
1.-LED Çip İmalatı
2.-Polisilikon Üretimi
3. -Yarı İletken Kristal Büyümesi
4. -Silikon ve SiC Epitaksi
5. -Termal Oksidasyon ve Difüzyon (TO&D)

Teknik Özellikler:

微信截图_20240wert729144258
Semicera İş yeri
Semicera iş yeri 2
Ekipman makinesi
CNN işleme, kimyasal temizleme, CVD kaplama
Semicera Depo Binası
Hizmetimiz

  • Öncesi:
  • Sonraki: