Tanım
SiC Kaplamalı Semicorex Gofret Taşıyıcıları, yüksek kaliteli ince film ve kaplama özellikleri için çok önemli olan CVD işlemleri sırasında eşit ısı dağılımı sağlayarak olağanüstü termal stabilite ve iletkenlik sağlar.
Temel Özellikler:
1. Üstün Termal Kararlılık ve İletkenlikSiC kaplı levha taşıyıcılarımız, CVD süreçleri için çok önemli olan sabit ve tutarlı sıcaklıkların korunmasında mükemmeldir. Bu, eşit ısı dağılımı sağlayarak üstün ince film ve kaplama kalitesi sağlar.
2. Hassas İmalatHer bir levha taşıyıcısı, eşit kalınlık ve yüzey düzgünlüğü sağlayacak şekilde sıkı standartlara göre üretilmektedir. Bu hassasiyet, birden fazla plaka üzerinde tutarlı biriktirme oranları ve film özellikleri elde etmek ve genel üretim kalitesini artırmak için hayati öneme sahiptir.
3. Safsızlık BariyeriSiC kaplama geçirimsiz bir bariyer görevi görerek yabancı maddelerin süsptörden levhaya yayılmasını önler. Bu, yüksek saflıkta yarı iletken cihazların üretiminde kritik olan kirlenme risklerini en aza indirir.
4. Dayanıklılık ve Maliyet VerimliliğiSağlam yapı ve SiC kaplama, levha taşıyıcıların dayanıklılığını artırarak, suseptör değiştirme sıklığını azaltır. Bu, bakım maliyetlerinin azalmasına ve arıza sürelerinin en aza indirilmesine yol açarak yarı iletken üretim operasyonlarının verimliliğini artırır.
5. Özelleştirme SeçenekleriSiC Kaplamalı Semicorex Gofret Taşıyıcıları boyut, şekil ve kaplama kalınlığındaki farklılıklar da dahil olmak üzere özel proses gereksinimlerini karşılayacak şekilde özelleştirilebilir. Bu esneklik, farklı yarı iletken üretim süreçlerinin benzersiz taleplerini karşılayacak şekilde süspatörün optimizasyonuna olanak tanır. Özelleştirme seçenekleri, yüksek hacimli üretim veya araştırma ve geliştirme gibi özel uygulamalar için özel olarak tasarlanmış askı tasarımlarının geliştirilmesine olanak tanıyarak belirli kullanım durumları için en iyi performansı sağlar.
Uygulamalar:
SiC Kaplamalı Semicera Gofret Taşıyıcıları aşağıdakiler için idealdir:
• Yarı iletken malzemelerin epitaksiyel büyümesi
• Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD) işlemleri
• Yüksek kaliteli yarı iletken plakaların üretimi
• Gelişmiş yarı iletken üretim uygulamaları
Teknik Özellikler:
