Epitaksiyel Büyüme için MOCVD Süseptörü

Kısa Açıklama:

Semicera'nın son teknoloji ürünü MOCVD epitaksiyel büyüme tutucuları, epitaksiyel büyüme sürecini ilerletir. Dikkatlice tasarlanmış suseptörlerimiz, malzeme birikimini optimize etmek ve yarı iletken üretiminde hassas epitaksiyel büyümeyi sağlamak için tasarlanmıştır.

Hassasiyet ve kaliteye odaklanan MOCVD epitaksiyel büyüme tutucuları, Semicera'nın yarı iletken ekipmanlarda mükemmelliğe olan bağlılığının bir kanıtıdır. Her büyüme döngüsünde üstün performans ve güvenilirlik sunma konusunda Semicera'nın uzmanlığına güvenin.


Ürün Detayı

Ürün Etiketleri

Tanım

Semicera'nın Epitaksiyel Büyüme için MOCVD Susceptor'u, gelişmiş yarı iletken uygulamalar için epitaksiyel büyüme sürecini optimize etmek üzere tasarlanmış lider bir çözümdür. Semicera'nın MOCVD Susceptor'u, sıcaklık ve malzeme birikimi üzerinde hassas kontrol sağlayarak, onu yüksek kaliteli Si Epitaksi ve SiC Epitaksi elde etmek için ideal seçim haline getirir. Sağlam yapısı ve yüksek termal iletkenliği, zorlu ortamlarda tutarlı performans sağlayarak epitaksiyel büyüme sistemleri için gereken güvenilirliği sağlar.

Bu MOCVD Susceptor, Monokristal Silikon üretimi ve SiC Epitaksi üzerinde GaN'nin büyütülmesi dahil olmak üzere çeşitli epitaksiyel uygulamalarla uyumludur ve bu da onu en üst düzey sonuçlar arayan üreticiler için önemli bir bileşen haline getirir. Ayrıca PSS Gravür Taşıyıcı, ICP Gravür Taşıyıcı ve RTP Taşıyıcı sistemleriyle sorunsuz bir şekilde çalışarak proses verimliliğini ve verimi artırır. Süseptör aynı zamanda LED Epitaksiyel Süseptör uygulamaları ve diğer gelişmiş yarı iletken üretim süreçleri için de uygundur.

Çok yönlü tasarımıyla semicera'nın MOCVD suseptörleri, Pancake Süseptörleri ve Namlu Süseptörlerinde kullanılmak üzere uyarlanabilir ve farklı üretim kurulumlarında esneklik sunar. Fotovoltaik Parçaların entegrasyonu, uygulamasını daha da genişleterek onu hem yarı iletken hem de güneş enerjisi endüstrileri için ideal hale getiriyor. Bu yüksek performanslı çözüm, mükemmel termal kararlılık ve dayanıklılık sunarak epitaksiyel büyüme süreçlerinde uzun vadeli verimlilik sağlar.

Ana Özellikler

1. Yüksek saflıkta SiC kaplı grafit

2. Üstün ısı direnci ve termal tekdüzelik

3. Pürüzsüz bir yüzey için kaplanmış ince SiC kristali

4. Kimyasal temizliğe karşı yüksek dayanıklılık

CVD-SIC Kaplamaların Ana Özellikleri:

SiC-CVD
Yoğunluk (g/cc) 3.21
Eğilme mukavemeti (Mpa) 470
Termal genleşme (10-6/K) 4
Isı iletkenliği (W/mK) 300

Paketleme ve Nakliye

Tedarik Yeteneği:
Aylık 10000 Adet / Adet
Paketleme ve Teslimat:
Ambalaj: Standart ve Güçlü Ambalaj
Poli çanta + Kutu + Karton + Palet
Liman:
Ningbo/Shenzhen/Şanghay
Kurşun zamanı:

Adet (Adet) 1 – 1000 >1000
Avustralya, Brezilya ve Kuzey Amerika ülkelerinin kullandığı saat uygulaması. Zaman(gün) 30 Müzakere edilecek
Semicera İş yeri
Semicera iş yeri 2
Ekipman makinesi
CNN işleme, kimyasal temizleme, CVD kaplama
Semicera Depo Binası
Hizmetimiz

  • Öncesi:
  • Sonraki: