Katı CVD SİLİKON KARBÜR parçaları, RTP/EPI halkaları ve tabanları ile yüksek sistem gerektiren çalışma sıcaklıklarında (>1500°C) çalışan plazma aşındırma boşluğu parçaları için birincil tercih olarak kabul edilmektedir; saflık gereksinimleri özellikle yüksektir (>%99,9995) ve performans özellikle kimyasallara karşı direncin özellikle yüksek olduğu durumlarda iyidir. Bu malzemeler tane kenarında ikincil fazlar içermez, dolayısıyla bileşenleri diğer malzemelere göre daha az parçacık üretir. Ayrıca bu bileşenler, daha az bozunmaya sahip sıcak HF/HCl kullanılarak temizlenebilir, bu da daha az parçacık ve daha uzun bir servis ömrü sağlar.
