2~6 inç 4° açılı P tipi 4H-SiC alt tabaka

Kısa Açıklama:

‌4° açılı P tipi 4H-SiC substrat‌ özel bir yarı iletken malzemedir; burada "4° açılı" levhanın kristal oryantasyon açısının 4 derecelik açılı olmasını ifade eder ve "P tipi" ise kristal oryantasyon açısını ifade eder. yarı iletkenin iletkenlik tipi. Bu malzemenin yarı iletken endüstrisinde, özellikle güç elektroniği ve yüksek frekans elektroniği alanlarında önemli uygulamaları vardır.


Ürün Detayı

Ürün Etiketleri

Semicera'nın 2~6 inç 4° açılı P tipi 4H-SiC alt katmanları, yüksek performanslı güç ve RF cihazı üreticilerinin artan ihtiyaçlarını karşılamak üzere tasarlanmıştır. 4° açı dışı yönlendirme, optimize edilmiş epitaksiyel büyüme sağlayarak bu alt tabakayı MOSFET'ler, IGBT'ler ve diyotlar dahil olmak üzere bir dizi yarı iletken cihaz için ideal bir temel haline getirir.

Bu 2~6 inç 4° açılı P tipi 4H-SiC alt tabaka, yüksek termal iletkenlik, mükemmel elektriksel performans ve olağanüstü mekanik stabilite gibi mükemmel malzeme özelliklerine sahiptir. Açı dışı yönlendirme, mikropipe yoğunluğunun azaltılmasına yardımcı olur ve daha düzgün epitaksiyel katmanları destekler; bu, son yarı iletken cihazın performansını ve güvenilirliğini artırmak için kritik öneme sahiptir.

Semicera'nın 2~6 inç 4° açılı P tipi 4H-SiC alt katmanları, farklı üretim gereksinimlerini karşılamak için 2 inç ila 6 inç arasında değişen çeşitli çaplarda mevcuttur. Substratlarımız, her bir levhanın gelişmiş elektronik uygulamalar için gereken sıkı spesifikasyonları karşılamasını sağlayacak şekilde, tekdüze katkı seviyeleri ve yüksek kaliteli yüzey özellikleri sağlayacak şekilde hassas bir şekilde tasarlanmıştır.

Semicera'nın yeniliğe ve kaliteye olan bağlılığı, 2~6 inç 4° açılı P tipi 4H-SiC alt tabakalarımızın güç elektroniğinden yüksek frekanslı cihazlara kadar geniş bir uygulama yelpazesinde tutarlı performans sunmasını sağlar. Bu ürün, otomotiv, telekomünikasyon ve yenilenebilir enerji gibi sektörlerdeki teknolojik gelişmeleri destekleyen yeni nesil enerji tasarruflu, yüksek performanslı yarı iletkenler için güvenilir bir çözüm sunar.

Boyutla ilgili standartlar

Boyut

2 inç

4 inç

Çap 50,8 mm±0,38 mm 100,0 mm+0/-0,5 mm
Yüzey Yönü 4°<11-20>±0,5°'ye doğru 4°<11-20>±0,5°'ye doğru
Birincil Düz Uzunluk 16,0 mm±1,5 mm 32,5 mm±2 mm
İkincil Düz Uzunluk 8,0 mm±1,5 mm 18,0 mm ± 2 mm
Birincil Düz Yönlendirme Paralel <11-20>±5,0° Paralel<11-20>±5,0c
İkincil Düz Yönelim Birincilden 90°CW ± 5,0°, silikon yüzü yukarı Birincilden 90°CW ± 5,0°, silikon yüzü yukarı
Yüzey İşlemi C-Face: Optik Parlatma, Si-Face: CMP C-Face:OpticalPolish, Si-Face: CMP
Gofret Kenarı Eğim verme Eğim verme
Yüzey Pürüzlülüğü Si-Face Ra<0,2 nm Si-Face Ra<0,2nm
Kalınlık 350,0±25,0um 350,0±25,0um
Politip 4H 4H
Doping p-Tipi p-Tipi

Boyutla ilgili standartlar

Boyut

6 inç
Çap 150,0 mm+0/-0,2 mm
Yüzey Yönü 4°<11-20>±0,5°'ye doğru
Birincil Düz Uzunluk 47,5 mm ± 1,5 mm
İkincil Düz Uzunluk Hiçbiri
Birincil Düz Yönlendirme <11-20>±5,0°'ye paralel
İkincilDüz Yönlendirme Birincilden 90°CW ± 5,0°, silikon yüzü yukarı
Yüzey İşlemi C-Yüz: Optik Parlatma, Si-Yüz:CMP
Gofret Kenarı Eğim verme
Yüzey Pürüzlülüğü Si-Face Ra<0,2 nm
Kalınlık 350,0±25,0μm
Politip 4H
Doping p-Tipi

Raman

2-6 inç 4° açılı P tipi 4H-SiC substrat-3

Sallanan eğri

2-6 inç 4° açılı P tipi 4H-SiC alt tabaka-4

Dislokasyon yoğunluğu (KOH aşındırma)

2-6 inç 4° açılı P tipi 4H-SiC alt tabaka-5

KOH gravür görselleri

2-6 inç 4° açılı P tipi 4H-SiC alt tabaka-6
SiC gofretleri

  • Öncesi:
  • Sonraki: