PART/1CVD (Kimyasal Buhar Biriktirme) yöntemi: 900-2300°C'de, tantal ve karbon kaynakları olarak TaCl5 ve CnHm, indirgeyici atmosfer olarak H₂, taşıyıcı gaz olarak Ar₂, reaksiyon biriktirme filmi kullanılarak. Hazırlanan kaplama kompakt, tekdüze ve yüksek saflıktatır. Ancak bazı sorunlar var...
Devamını oku