Haberler

  • SiC Kaplama Çarkı Dişlisi: Yarı İletken Üretim Verimliliğinin Artırılması

    SiC Kaplama Çarkı Dişlisi: Yarı İletken Üretim Verimliliğinin Artırılması

    Hızla gelişen yarı iletken üretim alanında, ekipmanın hassasiyeti ve dayanıklılığı, yüksek verim ve kaliteye ulaşmak için çok önemlidir. Bunu sağlayan en önemli bileşenlerden biri de süreçlerin verimliliğini artırmak için tasarlanan SiC Kaplama Çark Dişlisidir...
    Devamını oku
  • Kuvars Koruma Tüpü Nedir? | Semicera

    Kuvars Koruma Tüpü Nedir? | Semicera

    Kuvars koruma tüpü, zorlu koşullarda mükemmel performansıyla bilinen, çeşitli endüstriyel uygulamaların önemli bir bileşenidir. Semicera'da zorlu ortamlarda yüksek dayanıklılık ve güvenilirlik için tasarlanmış kuvars koruma tüpleri üretiyoruz. Olağanüstü karakteriyle...
    Devamını oku
  • CVD Kaplamalı Proses Borusu Nedir? | Semicera

    CVD Kaplamalı Proses Borusu Nedir? | Semicera

    CVD kaplı proses tüpü, yarı iletken ve fotovoltaik üretim gibi çeşitli yüksek sıcaklık ve yüksek saflıktaki üretim ortamlarında kullanılan kritik bir bileşendir. Semicera'da, üstün performans sunan yüksek kaliteli CVD kaplamalı proses tüpleri üretiminde uzmanız...
    Devamını oku
  • İzostatik Grafit Nedir? | Semicera

    İzostatik Grafit Nedir? | Semicera

    İzostatik olarak oluşturulmuş grafit olarak da bilinen izostatik grafit, bir hammadde karışımının soğuk izostatik presleme (CIP) adı verilen bir sistemde dikdörtgen veya yuvarlak bloklar halinde sıkıştırıldığı bir yöntemi ifade eder. Soğuk izostatik presleme, bir malzeme işleme yöntemidir.
    Devamını oku
  • Tantal Karbür Nedir? | Semicera

    Tantal Karbür Nedir? | Semicera

    Tantal karbür, özellikle yüksek sıcaklıktaki ortamlarda olağanüstü özellikleriyle bilinen son derece sert bir seramik malzemedir. Semicera'da, zorlu koşullar için gelişmiş malzemeler gerektiren endüstrilerde üstün performans sunan en kaliteli tantal karbür sağlama konusunda uzmanız.
    Devamını oku
  • Kuvars Fırını Çekirdek Borusu Nedir? | Semicera

    Kuvars Fırını Çekirdek Borusu Nedir? | Semicera

    Kuvars fırın çekirdek borusu, yarı iletken üretimi, metalurji ve kimyasal işleme gibi endüstrilerde yaygın olarak kullanılan çeşitli yüksek sıcaklıktaki işleme ortamlarında önemli bir bileşendir. Semicera'da, bilinen yüksek kaliteli kuvars fırın göbek tüplerinin üretiminde uzmanız...
    Devamını oku
  • Kuru Dağlama İşlemi

    Kuru Dağlama İşlemi

    Kuru aşındırma işlemi genellikle dört temel durumdan oluşur: aşındırma öncesi, kısmi aşındırma, sadece aşındırma ve aşırı aşındırma. Ana özellikler aşındırma hızı, seçicilik, kritik boyut, tekdüzelik ve uç nokta tespitidir. Şekil 1 Dağlamadan önce Şekil 2 Kısmi aşındırma Şekil...
    Devamını oku
  • Yarı İletken Üretiminde SiC Paddle

    Yarı İletken Üretiminde SiC Paddle

    Yarı iletken üretimi alanında SiC Paddle, özellikle epitaksiyel büyüme sürecinde çok önemli bir rol oynuyor. MOCVD (Metal Organik Kimyasal Buhar Biriktirme) sistemlerinde kullanılan önemli bir bileşen olan SiC Kürekler, yüksek sıcaklıklara ve ...
    Devamını oku
  • Gofret Küreği Nedir? | Semicera

    Gofret Küreği Nedir? | Semicera

    Bir levha küreği, yarı iletken ve fotovoltaik endüstrilerinde yüksek sıcaklıktaki işlemler sırasında levhaları işlemek için kullanılan çok önemli bir bileşendir. Semicera olarak, zorlu talepleri karşılayan en kaliteli gofret küreklerini üretmeye yönelik gelişmiş yeteneklerimizle gurur duyuyoruz...
    Devamını oku
  • Yarı İletken Proses ve Ekipmanları(7/7)- İnce Film Büyütme Prosesi ve Ekipmanları

    Yarı İletken Proses ve Ekipmanları(7/7)- İnce Film Büyütme Prosesi ve Ekipmanları

    1. Giriş Maddelerin (hammaddelerin) alt tabaka malzemelerinin yüzeyine fiziksel veya kimyasal yöntemlerle bağlanması işlemine ince film büyümesi denir. Farklı çalışma prensiplerine göre, entegre devre ince film biriktirme şu şekilde ayrılabilir: -Fiziksel Buhar Birikimi ( P...
    Devamını oku
  • Yarı İletken Proses ve Ekipmanları(6/7) - İyon İmplantasyon Prosesi ve Ekipmanları

    Yarı İletken Proses ve Ekipmanları(6/7) - İyon İmplantasyon Prosesi ve Ekipmanları

    1. Giriş İyon implantasyonu entegre devre imalatındaki ana süreçlerden biridir. Bir iyon ışınını belirli bir enerjiye (genellikle keV ila MeV aralığında) hızlandırmak ve ardından onu katı bir malzemenin yüzeyine enjekte ederek fiziksel özelliklerini değiştirmek sürecini ifade eder.
    Devamını oku
  • Yarı İletken Proses ve Ekipmanları(5/7)- Dağlama Prosesi ve Ekipmanları

    Yarı İletken Proses ve Ekipmanları(5/7)- Dağlama Prosesi ve Ekipmanları

    Bir Giriş Entegre devre üretim sürecinde gravürleme şu şekilde ayrılır: -Islak gravür; -Kuru gravür. İlk günlerde, ıslak aşındırma yaygın olarak kullanılıyordu, ancak çizgi genişliği kontrolü ve aşındırma yönelimindeki sınırlamalar nedeniyle, 3μm'den sonraki çoğu işlemde kuru aşındırma kullanılıyor. Islak aşındırma...
    Devamını oku